ATM手动双盘磨抛机Saphir 250M2
产品特点
1、可变转速
磨盘转速通过旋钮在30-600rpm间连续可调。
在工作期间转速可随时调整。
在整个转速速度范围,可保持恒定的较高扭矩。
2、清洁增强功能
可选择性地激活加速功能,在制样过程结束时磨盘自动以750rpm的转速旋转3秒钟,有助于磨抛盘脱水。清洁增强结束时,设备自动关闭
3、磨盘顺时/逆时针旋转
通过按下设备背面的拨动开关,可方便地切换磨盘的旋转方向。
4、供水可调
供水通过手动电磁阀开关控制。通过左右旋转龙头可以实现在工作盘上水流的分配。冲洗龙头可以拉出,通过扩展软管清洁内槽等部位。
5、坚固、平稳、耐用
设备所有部件均通过EC安全认证,为德国原装进口,铝制机架,粉末涂层,坚固耐用。设备内部采用高标准技术,运行平稳、安静,空转时噪音低于49分贝。
6、配备防溅环和磨盘盖
符合人体工程学的防溅环显著减少了液体的飞溅,凹槽握柄的设计便于在防溅环处于原位时更换磨抛盘。磨抛盖有效避免了灰尘堆积。
7、安全设置
1.急停按钮设计在设备显著位置,保证使用安全;
2.工作盘周围有耐冲击塑料内槽,防止样品飞出伤人。
8、易于维护
工作盘和水槽均容易拆卸和安装,水槽底部带有排水管,易于清洁和维护。
Tomas M加液系统(可选)
选用Topas M加液系统,可在抛光过程中使用润滑剂和多达3种不同的金刚石悬浮液。
该加液系统具有手动和自动加液模式。加液间隔时间可调,具备反冲洗清洁功能,悬浮液瓶易于重新填充和移除。
废料沉淀槽(可选)
双格室 45 L,进口筛和过滤袋设计,能够通过粗筛和沉淀将固体从液体中沉淀出来。
可插入(系统实验室橱柜)式/移动式可选。
技术参数
1.磨盘尺寸:φ200-250mm
2.磨盘数量:2
3.电机功率:1.6 kVA
4.磨盘转速:30 – 600 转/分钟,连续可调
5.磨盘可顺时针或逆时针旋转。
6.开关按钮具有发光状态指示。
7.可选择性地激活磨盘加速清洁功能。
8.工位供水可调。冲洗龙头可以拉出,通过扩展软管清洁内槽等部位。
9.符合人体工程学的防溅环和上盖,有效防止液体飞溅。
10.所有磨/抛盘配有磁性吸盘及卡环,金刚石研磨盘、砂纸、抛光布更换快捷方便。
11.带有紧急情况提示功能,紧急刹车功能,磁安全锁,保证使用安全。
12.可选Topas M加液系统,可在抛光过程中使用润滑剂和多达3种不同的金刚石悬浮液。
13.设备所有部件均通过EC安全认证,均为德国进口,外壳采用全不锈钢及铝合金制成,具有防粉末涂层。
14.宽X高X深:901 x 265 x 710 mm
15.重量:45~49 kg
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